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9SDH-2 加速器

 

離子束分析技術

 

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早期加速器的主要功能,是產生能量為百萬電子伏特MeV的離子束,做為核物理或核化學學者研究工具,但隨著核相關領域學者轉移至使用更高能量GeVTeV的加速器,留下更多的時間供其它領域探討,又適逢八十年代半導體工業的發展,離子佈植ion implantation、材料雜質含量和薄膜品質等種種需求,加速了 加速器應用的進展。

利用離子束對樣品表面進行分析,通常可以獲得下列三方面的結果:

一、樣品表面元素的組成;

二、元素在表面的含量;

三、元素在表面的排列情況。

這三方面正是在分析樣品時,常需知道的訊息。

離子束分析技術(見圖一)的主要內容包括:

粒子誘發X-射線產生Particle Induced X-ray Emission簡稱 PIXE、拉塞福背向散射光譜學Rutherford Bcckscattering Spectrometry簡稱 RBS、離子穿隧效應Channeling Effect簡稱 C以及核反應分析Nuclear Reaction Analysis簡稱 NRA等,這些核技術各有長短處,綜合加以利用即可兼取各長處及互補,不斷拓寬至各個領域的應用範圍。

圖一、離子束分析技術示意圖

 

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